Hermosillo, Sonora 9 de diciembre de 2025.- Como parte del programa estratégico del gobernador Alfonso Durazo Montaño para la instalación del Centro de Diseño de Semiconductores, proyecto integrado en el Plan Sonora de Energías Sostenibles, con el respaldo de la presidenta Claudia Sheinbaum, representantes de instituciones de educación superior recibieron capacitación especializada en el Centro de Ingeniería y Desarrollo Industrial (Cidesi).
El mandatario estatal reconoció al Instituto Tecnológico Superior de Cajeme (Itesca) como institución líder del Consorcio Estatal de Semiconductores, para la profesionalización de estudiantes y docentes en la industria de la electromovilidad, consolidando al estado como referente nacional en innovación tecnológica.
“Con esta capacitación damos un paso estratégico para consolidar una base académica y técnica común entre las instituciones de educación superior que lo integran, favoreciendo una ruta coordinada de especialización que responda a los desafíos del entorno industrial, la innovación y el nearshoring tecnológico en la región”, sostuvo el mandatario sonorense.
Este programa de formación se impartió a docentes investigadores del Itesca, del Instituto Tecnológico de Agua Prieta (ITAP), de Itescan, de las Universidades Tecnológicas de Hermosillo (UTH) y de San Luis Río Colorado (Utslrc), así como de la Universidad Estatal de Sonora (UES), quienes se capacitaron en procesos de oxidación, lift-off y fotolitografía sobre obleas de silicio.
El curso se llevó a cabo en el cuarto limpio de Cidesi, ubicado en Querétaro, para impulsar la actualización técnica orientada a fortalecer capacidades regionales para la investigación aplicada, la formación de talento y el desarrollo tecnológico en micro y nano fabricación.
Este curso permitió a las y los participantes profundizar en procedimientos clave de manufactura de dispositivos semiconductores mediante prácticas directamente vinculadas a estándares de sala limpia y al manejo de procesos fundamentales para la industria, con énfasis en la preparación de superficies, aplicación de fotoresist, alineación y exposición, revelado y técnicas de depósito y retirada selectiva de materiales.
